现在光刻机与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光刻机。如今的世界是一个信息社会，各种各样的信息流在世界流动。而光刻机的技术是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。
平版印刷术用于在用户不希望影响其整个样品的工艺步骤（主要是沉积或蚀刻）之前对样品进行构图。在蚀刻之前，使用光刻技术来形成抗蚀剂保护层，该保护层仅将材料保留在存在抗蚀剂的位置（负图案）。在使用沉积光刻进行剥离之前，在沉积之后剥离抗蚀剂，仅留下没有抗蚀剂的材料（正图案）。
典型过程：
1、从干净的基材和掩模版开始。如果掩模或基板上有颗粒，则可能导致抗蚀剂覆盖率不均匀，从而导致许多器件出现错误；
2、脱水烘烤样品。这样可以轻除表面上的水分，并改善与表面的附着力。通常，当表面仍然有水分时，抗蚀剂会在烘烤过程中起泡；
3、旋转抗蚀剂（通常在助粘剂之后）。这需要均匀地涂覆表面，否则曝光将不一致；
4、轻轻烘烤抗蚀剂，这会将抗蚀剂中的溶剂轻除掉。过多的软烘烤会降低抗蚀剂的灵敏度；
5、暴露抗蚀剂（请参阅前面的部分）；
6、在某些抗蚀剂中，需要后曝光烘烤（PEB）。这将使酸在抗蚀剂中分布，从而破坏键。这样可以使抗蚀剂的侧壁轮廓更直；
7、显影抗蚀剂。显影剂的类型取决于抗蚀剂和基底。与手动方法相比，自动显影系统将具有更好的重现性；
8、有些抗蚀剂需要硬烤，而另一些则不需要。确保您遵循所使用抗蚀剂的推荐做法。
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